9 вересня за місцевим часом генеральний директор Intel Кіссінджер оголосив, що інвестує 20 мільярдів доларів у будівництво нової великомасштабної фабрики по виробництву пластин в Огайо, США.Це частина стратегії Intel IDM 2.0.Весь інвестиційний план становить 100 мільярдів доларів.Очікується, що серійне виробництво нової фабрики почнеться в 2025 році. Тоді процес «1,8 нм» поверне Intel на позицію лідера напівпровідників.
З того часу, як у лютому минулого року став генеральним директором Intel, Кіссінджер активно сприяв будівництву заводів у Сполучених Штатах і по всьому світу, з яких щонайменше 40 мільярдів доларів США було інвестовано в Сполучені Штати.Минулого року він інвестував 20 мільярдів доларів в Арізону для будівництва вафельної фабрики.Цього разу він також інвестував 20 мільярдів доларів США в Огайо, а також побудував нову фабрику для ущільнення та тестування в Нью-Мексико.
Intel інвестує ще 20 мільярдів доларів у будівництво двох фабрик чіпів.Король технології «1,8 нм» повертається
Фабрика Intel також є великою фабрикою з виробництва напівпровідникових мікросхем, нещодавно побудованою в Сполучених Штатах після ухвалення законопроекту про субсидію на мікросхеми в розмірі 52,8 мільярда доларів США.З цієї причини президент Сполучених Штатів також був присутній на церемонії відкриття, а також губернатор Огайо та інші високопосадовці місцевих департаментів.
Intel інвестує ще 20 мільярдів доларів у будівництво двох фабрик чіпів.Король технології «1,8 нм» повертається
База виробництва мікросхем Intel складатиметься з двох заводів по виробництву пластин, які можуть вмістити до восьми заводів і підтримувати системи екологічної підтримки.Він займає площу майже 1000 акрів, тобто 4 квадратних кілометри.Це створить 3000 високооплачуваних робочих місць, 7000 робочих місць у будівництві та десятки тисяч робочих місць у кооперації ланцюгів поставок.
Очікується, що ці дві фабрики почнуть масово виробляти пластини в 2025 році. Intel конкретно не згадувала технологічний рівень фабрики, але Intel раніше заявляла, що освоїть технологічний процес 5-го покоління ЦП протягом 4 років, і буде масово виробляти 20a. і 18a двох генераційних процесів у 2024 році. Таким чином, завод тут також повинен виробляти 18a процес до того часу.
20a і 18a — це перші в світі процеси чіпів, які досягли рівня EMI, еквівалентного 2-нм і 1,8-нм техпроцесам друзів.Вони також запустять дві технології чорної технології Intel, стрічковий FET і powervia.
За словами Intel, ribbonfet — це реалізація Intel затвора навколо транзисторів.Це стане першою абсолютно новою транзисторною архітектурою з тих пір, як компанія вперше запустила FinFET у 2011 році. Ця технологія прискорює швидкість перемикання транзистора та досягає того самого струму, що й багатореброва структура, але займає менше місця.
Powervia — це унікальна та перша в галузі мережа зворотної передачі живлення Intel, яка оптимізує передачу сигналу, усуваючи потребу в джерелі живлення та
Час публікації: 12 вересня 2022 р